|
|
Modernizace aparatury IBAD
Urbánek, Ivan ; Nebojsa, Alois (oponent) ; Spousta, Jiří (vedoucí práce)
Tato diplomová práce je rozdělena do tří hlavních částí věnujících se naprašování tenkých vrstev za pomoci iontového svazku. V první části je uveden popis aparatury IBAD na ÚFI FSI VUT Brno a principy depozičního procesu. Je zde také popsáno podrobné ovládání IBAD aparatury při depozici. Další část se věnuje měření depozičních rychlostí při iontovém naprašování za účelem zpřesnění depozic tenkých vrstev. Poslední část se zabývá plánovanými a již dokončenými konstrukčními úpravami, které mají za cíl zlepšit kvalitu a rychlost depozice tenkých vrstev. Změny zahrnují možnost zaclonění substrátu, výměnu vstupní příruby, návrh nové zakládací komory s multifunkčním držákem substrátů a umožnění ovládání aparatury přes počítač.
|
|
|
Nanomechanical testing of an a-C:N nanolayer prepared by ion beam assisted deposition on Ti.sub.6./sub.Al.sub.4./sub.V alloy
Vlčák, P. ; Šepitka, J. ; Horaždovský, T. ; Jirka, Ivan ; Gregora, Ivan ; Němec, M.
We applied ion beam assisted deposition for preparing a-C:N nanolayers on Ti6Al4V alloy. A Hysitron TI 950 TriboIndenter (TM) nanomechanical test instrument was used to assess the depth profiles of the mechanical properties on modified titanium substrates. Two methods were employed : a) quasistatic partial unload, and b) dynamic Continuous Measurement of X (CMX). The average nanoindentation hardness increased from HIT similar to 5GPa for a reference sample to HIT similar to 8.6 GPa for a sample coated by an a-C nanolayer, and to HIT similar to 11.5 GPa for a sample coated by an a-C:N nanolayer. The average storage modulus of the sample coated by a-C:N increased from E' similar to 130 GPa (reference sample) to E' similar to 155 GPa. The storage modulus of the sample coated by the a-C nanolayer was less than the storage modulus of the titanium substrate.
|
|
|
Modernizace aparatury IBAD
Urbánek, Ivan ; Nebojsa, Alois (oponent) ; Spousta, Jiří (vedoucí práce)
Tato diplomová práce je rozdělena do tří hlavních částí věnujících se naprašování tenkých vrstev za pomoci iontového svazku. V první části je uveden popis aparatury IBAD na ÚFI FSI VUT Brno a principy depozičního procesu. Je zde také popsáno podrobné ovládání IBAD aparatury při depozici. Další část se věnuje měření depozičních rychlostí při iontovém naprašování za účelem zpřesnění depozic tenkých vrstev. Poslední část se zabývá plánovanými a již dokončenými konstrukčními úpravami, které mají za cíl zlepšit kvalitu a rychlost depozice tenkých vrstev. Změny zahrnují možnost zaclonění substrátu, výměnu vstupní příruby, návrh nové zakládací komory s multifunkčním držákem substrátů a umožnění ovládání aparatury přes počítač.
|
host ::
RSS.